仪器编号

型号

制造商

产地

购买

年份

原值

（万元）

仪器

负责人

联  系

电  话

是否

对外开放

可对外

开放时间

0210472

START DB235

FEI

美国

2001

930.00

徐 军

（010）62755266-12

是

星期一～星期五8:30-17:30

安放地点

所在实验室名称

实验室地址

实验室类型

物理楼电镜室119

电子显微镜实验室

物理楼北楼一层西侧

国家重点实验室

主要规格

及技术指标

    ●电子束    E-Beam

    分辨率: 3 nm at 1 kV & 2 mm WD

    2 nm at 5 kV & 5 mm WD

    2 nm at 30 kV & 7 mm WD

    ●离子束    I-Beam 刻蚀、沉积（金属Pt，非金属SiO2）

    分辨率: 7 nm at 30kV & 1pA

    ●电子束曝光    E-Beam Lithography

    对中精度: 100 nm

主要功能

及应用范围

仪器主要功能（Functions）：

(1)用离子束刻蚀、沉积(金属)纳米级线条和图形；

(2)电子束暴光技术进行亚微米结构加工；

(3)用电子束对加工过程进行实时观察和监控；

主要运用领域 (Application Fields)： 

(1)纳米量子器件的制备      Machining Nanometer Quantum Devices

(2)二维光子晶体制备     Two Dimension Photonic Crystal

(3)精确定位的透射电镜样品制备      TEM Sample-Preparing

(4)集成电路的改性、微器件的结构剖析      IC Modification and Analysis

主

要

附

件

X射线能谱仪

收

费

标

准

   离子束 (I-Beam)

    ●校内（600元/小时）；

    ●校外（2000元/小时）